「高校化学 水素と貴ガス」の版間の差分
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いろいろと加筆 |
※ 範囲外: エキシマ |
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希ガスは
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|style="text-align:center"|キセノン
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== ※ 範囲外: エキシマ ==
アルゴン気体とフッ素気体をつめた放電管に放電をすることで、波長197nmの紫外線を放出する。これは、不安定なアルゴンフッ素 ArF が一時的に生成し、それが分解して別々のArとFとに戻るさいに放出される光である。
この ArF の光の波長は197nmとかなり小さいので、半導体などの微細加工に便利なので、放電管に放電をしつづけることでArFの紫外光をレーザーの光源として活用して、半導体製造のさいの光化学反応の光源に使われている。
Arのほか、キセノンでも
:XeCl - 308 nm
:XeF - 351 nm
のように、ハロゲンとの不安定な化合物によってレーザー光が放出されることが知られている。
ArFもXeClも、ともに、希ガス原子とハロゲン原子との化合物である。このように、希ガスとハロゲン分子との（不安定）化合物とのことをエキシマ（Excimer）という。
エキシマは不安定であり、光を放出して、すぐに分解して、それぞれの原子にもどってしまう。
また、駅島から放出された光をレーザー光として活用したものをエキシマレーザーという。ArFのエキシマレーザーは半導体製造などに利用されている。
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